簡要描述:品牌:希臘ThetaMetrisis名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動,而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關的其他物理量。
詳細介紹
FR-pRo VIS/NIR基礎型膜厚儀(紫外/近紅外-高分辨率)光譜范圍:350-1000nm : Α)鹵鎢光源系統(tǒng)Tungsten Halogen light source 全軟件控制的光譜范圍和輻照強度。 小型光譜儀光譜范圍(350nm-1000nm),分辨精度可達3648像素, 16位級 A/D 分辨精度;配有USB通訊接口; 光學連接器SMA 905, 光譜儀功率:110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz. 10mm厚度的氧化鋁面板,每英寸(25mm)間距,配有M6 (or ¼”) 口徑鉆孔,用以安裝光學部件。 樣品放置臺,配有多點Z軸聚焦和X-Y軸移動調節(jié)。反射探針夾具調節(jié)范圍 (200mm – 200mm – 60mm),可在測試區(qū)域內精準調節(jié)。 Β) FR-Monitor膜厚測試軟件系統(tǒng), 可精確計算如下參數(shù): 1)單一或堆積膜層的厚度; 2)靜態(tài)或動態(tài)模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫,可以有效地協(xié)助用戶進行線下或者在線測試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率,透射率和反射率的測量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用授權,即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結果分析使用。 C) 參考樣片: a) 經校準過的反射標準硅片; b) 經校準過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片; c) 經校準過的帶有Si3N4/SiO2/Si特征區(qū)域的樣片; D) 反射光學探針 系統(tǒng)內嵌6組透射光探針200μm, 1組反射光探針200μm; |
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