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光刻機(jī)Aligner MMA

簡要描述:MYCRO*荷蘭(光刻機(jī)Aligner MMA16),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦

  • 產(chǎn)品型號:MMA16
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:2076

詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品簡介:

MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)(Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域??蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。

光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中MMA16掩碼對準(zhǔn)器是一種高性能掩碼對準(zhǔn)器,已經(jīng)過驗證的組件設(shè)計。該系統(tǒng)是一個理想的經(jīng)濟(jì)選擇研發(fā),或有限的規(guī)模,試生產(chǎn)。我們采用了一種創(chuàng)新的系統(tǒng),使基板快速而輕柔地拉平,在接觸曝光過程中實現(xiàn)平行光掩模對準(zhǔn)和在晶圓上均勻接觸。該系統(tǒng)具有一微米的分辨率和校準(zhǔn)精度。

MMA16的特點是一個可靠的紫外線光源,提供準(zhǔn)直紫外線在近或深紫外光使用燈。雙傳感器、光反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連,可將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的±2%以內(nèi)??梢钥焖俣菀椎馗淖僓V波長。這是一個靈活,經(jīng)濟(jì)的解決方案,任何入門級口對準(zhǔn)和紫外線曝光應(yīng)用。

MMA16面罩對準(zhǔn)器軟件的特點是易于理解和Z越的人機(jī)工程學(xué),減少了操作人員的培訓(xùn)時間,使其更容易與系統(tǒng)一起工作

二、技術(shù)參數(shù):

1、光掩模的尺寸:5英寸大;

2、晶片大小:大4英寸(無定形);

3、掩模架滑動:手動卡盤;

4、模板移動:X=±3mm, Y=±3mm;

5、曝光方法:支持接近式曝光,各種接觸式(軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸)曝光;

6、照明:250W超高壓燈

7、照明不均勻性:±5%

8、有效接觸面積:直徑100毫米

9、分辨率:3mµL/S

10、對齊方法:通過攝像頭查看

11、對齊物鏡:10 x(上/下)

12、總放大倍率:100 x

13、物鏡分離:15˜90毫米

14、對準(zhǔn)范圍:X,Y=±4毫米

15、對準(zhǔn)間隙:99年09年µm

16、對準(zhǔn)精度:小于±5毫米

17、主機(jī)電源:220/50Hz, 16A (600W)

18、氮?dú)猓?.4˜0.5 Mpa

19、真空壓力:小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)

20、主機(jī)尺寸:高度712mm×寬度700mm×深度 440mm

21、凈重:約250Kg

三、產(chǎn)品特點:

高分辨率打印

高精度X,Y,對準(zhǔn)臺和顯微鏡操縱器

高強(qiáng)度光學(xué)配置

不同紫外線照射波長

低限度的操作員培訓(xùn)

人體工學(xué)操作

易于理解用戶界面

易于進(jìn)行所有組件的組裝

掩模對準(zhǔn)器

無需預(yù)熱時間

價格低

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