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韓國Mask Aligner光刻機

簡要描述:光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。

  • 產品型號:L-100和M-100
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:1669

詳細介紹

L-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。L-100專為4英寸晶圓而設計,具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


技術參數(shù)

類型

PLC手動控制系統(tǒng)

波長

365 nm

掩膜版尺寸

5英寸

紫外光強度

20 ?

基片尺寸

4英寸晶圓

紫外線光束均勻度

≤3 %

分辨率

1 ?

接觸模式

真空/硬/軟

對準精度

1 ?

顯微鏡

CCD變焦顯微鏡



選配項

Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

M-100

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M-100專為4英寸晶圓而設計,具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


技術參數(shù)

類型

PLC手動控制系統(tǒng)

波長

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大5*5英寸

紫外光強度

15 ~ 25/ ?

基片尺寸

4英寸晶圓

紫外線光束均勻度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ?

接觸模式

真空/硬/軟/接近

對準精度

1 ?

顯微鏡

CCD變焦顯微鏡

紫外燈和電源

350W

選配項

Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA





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