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簡要描述:PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。
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型號: 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 200/200RIE
產(chǎn)地: 美國
品牌: Axic
環(huán)球供應(yīng),本地服務(wù)!MYCRO專業(yè)為您提供實(shí)驗(yàn)室RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)設(shè)備,*的技術(shù)服務(wù)及售后,MYCRO值得您的的信賴!
技術(shù)規(guī)格:
型號 | PlasmaStar 100 | PlasmaStar 100RIE | PlasmaStar 200 | PlasmaStar 200RIE |
艙體尺寸 | 直徑254×深度356mm | 直徑200×深度280mm | 寬305×高305×深406mm | 寬305 ×高200×深406mm |
艙體材質(zhì) | 標(biāo)配為陽極氧化鋁艙體 | |||
常用氣體 | 空氣,氧氣,氫氣,氬氣,氮?dú)猓?/span>CF4,SF6等和其他混合氣體 | |||
氣路控制 | 標(biāo)配2路MFC,PlasmaStar 100多可選配4路, | 標(biāo)配2路MFC,PlasmaStar 200多可選配5路; | ||
控制系統(tǒng) | 電阻觸摸屏操作界面 | |||
程序控制 | PC觸屏控制,可編程序,無線存儲數(shù)據(jù) | |||
射頻頻率 | 13.56 MHz | |||
射頻功率 | 0~600W瓦之間距連續(xù)可調(diào),自動(dòng)匹配 | 0~1000W瓦之間距連續(xù)可調(diào),自動(dòng)匹配 | ||
電極設(shè)計(jì) | 標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極; | 標(biāo)準(zhǔn)圓柱形籠式電極; 可選交替多層托盤電極; 可選RIE平面處理水冷平板電極 | ||
設(shè)備尺寸 | 寬800 x 深850 x 高525mm; | 寬1033 x 深850 x 高635mm; |
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